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Onnis, Luciano; Raspa, Verónica Diana; Di Lorenzo, Francisco Javier; Knoblauch, Pablo Tomás "Espectroscopía de la radiación X de alta energía emitida por un Plasma Focus de 4.7 kJ" (2008). Anales AFA. 20(01): pp. 96-99

Resumen:

La distribución espectral de la radiación X de alta energia emitida por un Plasma Focus tipo Mather (30 kV, 10.5μF) fue determinada mediante el método de absorción diferencial en muestras metálicas de materiales y espesores diferentes. En el desarrollo de las mediciones cuyos resultados se presentan, el equipo fue operado empleando deuterio dosificado (en volumen) con 2.5 % de argón y 3.5 mbar de presión total. Se emplearon muestras de cobre, níquel, titanio y plata de espesores variables entre 0.1 y 10 mm, según el caso. La radiación X fue detectada mediante una película radiográfica comercial acoplada a un centellador del tipo Lanex (Gd₂O₂S:Tb). Los resultados indican la presencia de un pico dominante en la zona de los 85 keV y componentes espectrales relevantes que se extienden entre los 50 y 150 keV

Abstract:

The spectrum of the hard x-rays emitted by a Mather-type Plasma Focus device (30 kV, 10.5μF) was determined by means of the differential absorption method, using metallic samples of different thicknesses and compositions. The device was operated in deuterium doped with argon (2.5 % by volume) and the total filling pressure was 3.5 mbar. Copper, nickel, titanium and silver samples were employed, with thicknesses between 0.1 and 10 mm. The X-ray radiation was detected using commercial radiographic film coupled with a Lanex (Gd₂O₂S:Tb) intensifying screen. The results show the presence of a dominant peak in around 85 keV and significant spectral components between 50 and 150 keV

Registro:

Título:Espectroscopía de la radiación X de alta energía emitida por un Plasma Focus de 4.7 kJ
Título alt:Hard X-ray spectroscopy of a 4.7 kJ Plasma Focus
Autor:Onnis, Luciano; Raspa, Verónica Diana; Di Lorenzo, Francisco Javier; Knoblauch, Pablo Tomás
Fecha:2008
Título revista:Anales AFA
Editor:Asociación Física Argentina
Handle: http://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v20_n01_p096
Ciudad:Villa Martelli, Buenos Aires
Idioma:Español
Palabras clave:PLASMA FOCUS; RAYOS X DUROS; ESPECTROSCOPIA
Keywords:PLASMA FOCUS; HARD X-RAYS; SPECTROSCOPY
Año:2008
Volumen:20
Número:01
Título revista abreviado:An. (Asoc. Fís. Argent., En línea)
ISSN:1850-1168
Formato:PDF
PDF:https://bibliotecadigital.exactas.uba.ar/download/afa/afa_v20_n01_p096.pdf
Registro:https://bibliotecadigital.exactas.uba.ar/collection/afa/document/afa_v20_n01_p096

Citas:

---------- APA ----------
Onnis, Luciano, Raspa, Verónica Diana, Di Lorenzo, Francisco Javier & Knoblauch, Pablo Tomás(2008). Hard X-ray spectroscopy of a 4.7 kJ Plasma Focus. Anales AFA, 20(01), 96-99.
---------- CHICAGO ----------
Onnis, Luciano, Raspa, Verónica Diana, Di Lorenzo, Francisco Javier, Knoblauch, Pablo Tomás. "Hard X-ray spectroscopy of a 4.7 kJ Plasma Focus" . Anales AFA 20, no. 01 (2008): 96-99.
---------- MLA ----------
Onnis, Luciano, Raspa, Verónica Diana, Di Lorenzo, Francisco Javier, Knoblauch, Pablo Tomás. "Hard X-ray spectroscopy of a 4.7 kJ Plasma Focus" . Anales AFA, vol. 20, no. 01, 2008, pp. 96-99.
---------- VANCOUVER ----------
Onnis, Luciano, Raspa, Verónica Diana, Di Lorenzo, Francisco Javier, Knoblauch, Pablo Tomás. Hard X-ray spectroscopy of a 4.7 kJ Plasma Focus. An. (Asoc. Fís. Argent., En línea). 2008;20(01): 96-99 . Available from: https://bibliotecadigital.exactas.uba.ar/collection/afa/document/afa_v20_n01_p096