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Budini, Nicolás; Schmidt, J. A.; Arce, Roberto Delio; Buitrago, Román Horacio "Silicio amorfo hidrogenado como material de base para la obtención de láminas delgadas de silicio policristalino" (2007). Anales AFA. 19(01): pp. 182-186

Resumen:

En este trabajo se estudia la evolución de las propiedades estructurales y de transporte eléctrico de películas delgadas de silicio amorfo hidrogenado, sometidas a distintos tratamientos térmicos. Las muestras fueron preparadas por PECVD a diferentes temperaturas y a altas velocidades de deposición. Los procesos térmicos post-deposición, realizados para analizar el cambio de fase amorfa-cristalina, la nucleación y el crecimiento de granos, se orientaron a determinar las mejores condiciones para obtener películas delgadas de silicio policristalino con el mayor tamaño de grano posible. El proceso de cristalización del silicio amorfo hidrogenado, mediante tratamientos térmicos escalonados y secuenciados, dió como resultado un material nanocristalino

Abstract:

In this work, the evolution of structural and electrical transport properties of hydrogenated amorphous silicon thin films subjected to different thermal treatments, was studied. The films were prepared by PECVD at different temperatures and at high deposition rates. Post-deposition thermal annealing processes, performed to analyze the amorphous-to-crystalline phase transition, nucleation and grain growth, have been carried out with the aim of determining the best conditions to obtain polycrystalline silicon thin films with the largest possible grain size. The crystallization process of hydrogenated amorphous silicon, by means of stepped and sequenced thermal annealings, resulted in a nanocrystalline material

Registro:

Título:Silicio amorfo hidrogenado como material de base para la obtención de láminas delgadas de silicio policristalino
Título alt:Hydrogenated amorphous silicon as a base material for obtaining polycrystalline silicon thin films
Autor:Budini, Nicolás; Schmidt, J. A.; Arce, Roberto Delio; Buitrago, Román Horacio
Fecha:2007
Título revista:Anales AFA
Editor:Asociación Física Argentina
Handle: http://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v19_n01_p182
Ciudad:Villa Martelli, Buenos Aires
Idioma:Español
Palabras clave:SILICIO AMORFO HIDROGENADO; PELICULAS DELGADAS; SILICIO POLICRISTALINO; TRATAMIENTOS TERMICOS
Keywords:HYDROGENATED AMORPHOUS SILICON; THIN FILMS; POLYCRYSTALLINE SILICON; THERMAL ANNEALING
Año:2007
Volumen:19
Número:01
Título revista abreviado:An. (Asoc. Fís. Argent., En línea)
ISSN:1850-1168
Formato:PDF
PDF:https://bibliotecadigital.exactas.uba.ar/download/afa/afa_v19_n01_p182.pdf
Registro:https://bibliotecadigital.exactas.uba.ar/collection/afa/document/afa_v19_n01_p182

Citas:

---------- APA ----------
Budini, Nicolás, Schmidt, J. A., Arce, Roberto Delio & Buitrago, Román Horacio(2007). Hydrogenated amorphous silicon as a base material for obtaining polycrystalline silicon thin films. Anales AFA, 19(01), 182-186.
---------- CHICAGO ----------
Budini, Nicolás, Schmidt, J. A., Arce, Roberto Delio, Buitrago, Román Horacio. "Hydrogenated amorphous silicon as a base material for obtaining polycrystalline silicon thin films" . Anales AFA 19, no. 01 (2007): 182-186.
---------- MLA ----------
Budini, Nicolás, Schmidt, J. A., Arce, Roberto Delio, Buitrago, Román Horacio. "Hydrogenated amorphous silicon as a base material for obtaining polycrystalline silicon thin films" . Anales AFA, vol. 19, no. 01, 2007, pp. 182-186.
---------- VANCOUVER ----------
Budini, Nicolás, Schmidt, J. A., Arce, Roberto Delio, Buitrago, Román Horacio. Hydrogenated amorphous silicon as a base material for obtaining polycrystalline silicon thin films. An. (Asoc. Fís. Argent., En línea). 2007;19(01): 182-186 . Available from: https://bibliotecadigital.exactas.uba.ar/collection/afa/document/afa_v19_n01_p182