Resumen:

Películas y polvos con composiciones en el sistema HfO2–Y2O3 fueron preparados por técnica de CSD (Chemical Solution Deposition). Los reactivos de partida fueron Hafnium n-Butoxide e Ytrium Acetate, que fueron disueltos en soluciones n-butanol para obtener soluciones precursoras de HfO2–2.5 mol% Y2O3, HfO2– 10 mol% Y2O3, HfO2–12 mol% Y2O3. Las películas se prepararon mediante la técnica de Dip-Coating sobre sustrato de alúmina a temperatura ambiente y atmósfera normal. Se obtuvieron polvos por evaporación del solvente a temperatura ambiente a una presión de 30 Torr y posterior calentamiento a 200°C. por 1 hora en atmósfera normal. Las películas fueron tratadas térmicamente a temperaturas entre 500°C y 1300°C. Mediante difractometría de haz rasante GI-XRD se estudió la evolución de las fases en las películas (ensayo ex situ). En cambio, la evolución de las fases en los polvos, que se presentan durante la formación del material debido al tratamiento térmico, fue estudiado in situ mediante Difractometría de Rayos X en cámara de calentamiento desde 200°C hasta 1200°C. Además, mediante análisis térmico DTA se estudió la evolución térmica del material entre temperatura ambiente y 1200°C

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