Se analiza la estructura electrónica de los óxidos GaAsO₄, As₂O₅, y Ga₂O₃. Se presentan resultados experimentales de fotoemisión (XPS) de la densidad de estados (DOS) de banda de valencia para cada uno de los sistemas, y se comparan con cálculos teóricos de la DOS obtenidos a partir del cómputo de las respectivas estructuras de bandas utilizando un método tight-binding. Se identifican los estados atómicos que contribuyen a cada pico experimental y se correlacionan las diferencias estructurales entre estos óxidos con los diferentes rasgos experimentales exhibidos en los espectros XPS
Título: | Estructura electrónica de óxidos de GaAs |
Autor: | Albanesi, Eduardo Aldo; Sferco, S. J.; Allan, G.; Lannoo, Michel; Hollinger, Guy |
Fecha: | 1991 |
Título revista: | Anales AFA |
Editor: | Asociación Física Argentina |
Handle: | http://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v03_n01_p367 |
Ciudad: | Villa Martelli, Buenos Aires |
Idioma: | Español |
Año: | 1991 |
Volumen: | 03 |
Número: | 01 |
Título revista abreviado: | An. (Asoc. Fís. Argent., En línea) |
ISSN: | 1850-1168 |
Formato: | |
PDF: | https://bibliotecadigital.exactas.uba.ar/download/afa/afa_v03_n01_p367.pdf |
Registro: | https://bibliotecadigital.exactas.uba.ar/collection/afa/document/afa_v03_n01_p367 |