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El control de los niveles de contaminación por diversas impurezas durante el crecimiento de silicio monocristalino es un requerimiento básico en la fabricación de este semiconductor. Se ha puesto a punto la técnica para determinar la concentración de oxígeno intersticial y carbono sustitucional por espectrometría infrarroja. Estos elementos son las impurezas predominantes durante el tiraje de los monocristales crecidos por Czochralski. Se presentan los resultados para uno de los lingotes crecidos en la división y se estiman los errores del método para distintos tipos de muestras

Registro:

Título:Determinación de la concentración de carbono y oxígeno en silicio por absorción infrarroja
Autor:Frigerio, Alicia Beatriz; Boselli, Alfredo
Fecha:1990
Título revista:Anales AFA
Editor:Asociación Física Argentina
Handle: http://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v02_n01_p235
Ciudad:Villa Martelli, Buenos Aires
Idioma:Español
Año:1990
Volumen:02
Número:01
Título revista abreviado:An. (Asoc. Fís. Argent., En línea)
ISSN:1850-1168
Formato:PDF
PDF:https://bibliotecadigital.exactas.uba.ar/download/afa/afa_v02_n01_p235.pdf
Registro:https://bibliotecadigital.exactas.uba.ar/collection/afa/document/afa_v02_n01_p235

Citas:

---------- APA ----------
Frigerio, Alicia Beatriz & Boselli, Alfredo(1990). Determinación de la concentración de carbono y oxígeno en silicio por absorción infrarroja. Anales AFA, 02(01), 235-237.
---------- CHICAGO ----------
Frigerio, Alicia Beatriz, Boselli, Alfredo. "Determinación de la concentración de carbono y oxígeno en silicio por absorción infrarroja" . Anales AFA 02, no. 01 (1990): 235-237.
---------- MLA ----------
Frigerio, Alicia Beatriz, Boselli, Alfredo. "Determinación de la concentración de carbono y oxígeno en silicio por absorción infrarroja" . Anales AFA, vol. 02, no. 01, 1990, pp. 235-237.
---------- VANCOUVER ----------
Frigerio, Alicia Beatriz, Boselli, Alfredo. Determinación de la concentración de carbono y oxígeno en silicio por absorción infrarroja. An. (Asoc. Fís. Argent., En línea). 1990;02(01): 235-237 . Available from: https://bibliotecadigital.exactas.uba.ar/collection/afa/document/afa_v02_n01_p235