Presentamos un estudio de compuestos amorfos hidrogenados no estequiométricos de Si-N con distintos contenidos de N. Combinando mediciones ópticas dwe transmisión en el IR, de fotoemisión (XPS) y de pérdida de energía de electrones (EELS), determinamos las densidades atómicas de Si N e H y las densidades de ligaduras Si-H, N-H, Si-Si y Si-N. Analizamos la estructura atómica alrededor de los sitios de Si y N. Estimamos las densidades dwe uniones "malas" N-N y Si-Si para un contenido de nitrógeno similar al estequiométrico
Título: | Estudio de compuestos amorfos de Si-N combinando mediciones ópticas de XPS y de EELS. Parte I : densidades atómicas y de ligaduras |
Autor: | Guraya, María Mónica; Ascolani, Hugo Del Lujan; Zampieri, G.; Dias Da Silva, José Humberto; Cisneros, J. I.; Cantão, M.; Marques, F. C. |
Fecha: | 1989 |
Título revista: | Anales AFA |
Editor: | Asociación Física Argentina |
Handle: | http://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v01_n01_p255 |
Ciudad: | Villa Martelli, Buenos Aires |
Idioma: | Español |
Año: | 1989 |
Volumen: | 01 |
Número: | 01 |
Título revista abreviado: | An. (Asoc. Fís. Argent., En línea) |
ISSN: | 1850-1168 |
Formato: | |
PDF: | https://bibliotecadigital.exactas.uba.ar/download/afa/afa_v01_n01_p255.pdf |
Registro: | https://bibliotecadigital.exactas.uba.ar/collection/afa/document/afa_v01_n01_p255 |